acido fosforico tris (2-carbonylethyl) fosforico (tcep-hci) è un nuovo agente riducente e deprotettivo per il DNA tiolato. l'acido fosforico di tris (2-carbonylethyl) fosforico (tcep hci) è più stabile e più compatibile rispetto al convenzionale agente riducente e agente deprotettivo mercaptoethanol o dithiothreitol (dtt). TCEP-HCI è riconosciuto come un agente riducente ideale senza alcun odore irritante.

allo stato attuale, ci sono principalmente i seguenti metodi per la via di sintesi dell'acido cloridrico fosforico tris (2-carbonylethyl) (tcep -hci):

il primo metodo: reazione di fosfina con fosfina ph 3 come materia prima in un'autoclave, seguita da idrolisi per ottenere acido tris (2-carbonletil) acido fosforico cloridrato (tcep-hci). sebbene questo metodo abbia un alto rendimento, l'autoclave e la fosfina gassosa altamente tossica devono essere utilizzati nel processo di reazione e il fattore di rischio è elevato, il che non favorisce la produzione industriale.

il secondo metodo: l'uso del tetrametilolfosfonio cloruro come materia prima per reagire con l'acrilonitrile. infine, è stato idrolizzato con acido cloridrico concentrato per dare il prodotto. i passaggi di questo metodo sono semplici, ma utilizza il cloruro di tetrametilolfosfonio per sostituire la fosfina gassosa altamente tossica per sintetizzare la tricianetilfosfina, ma il tris-cianoetilfosfato viene idrolizzato per dare acido tris (2-carbonletil) fosforico cloridrato (tcep). una miscela solida di cloridrato e cloruro di ammonio, i due sali della miscela non possono ottenere una separazione efficace, la purezza del prodotto è bassa.

il terzo metodo: reazione di talkilazione del tetrametilolfosforo cloruro e del composto in un solvente organico in presenza di una base produce trimetil 3, 3 ', 3' '-fosfina triil tripropionato, quindi la reazione di idrolisi avviene in acido cloridrico concentrato per ottenere il tcep composto -hcl. questo metodo è facile da usare, ha un basso costo e un alto rendimento ed è adatto per la produzione industriale.

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